蚀刻的精选

问题详情：化学与生活、社会密切相关。下列说法不正确的是 用浓蚀刻工艺玻璃上的纹饰    用含的*物治疗胃*过多  用处理**废水            用加入的方法除去废水中的【回答】A知识点：金属元素的单质...

问题详情：蚀刻铜制线路板的蚀刻液种类很多：**蚀刻液，如FeCl3蚀刻溶液、H2O2－盐*及CuCl2－盐*；碱*蚀刻液，如[Cu(NH3)4]Cl2溶液等。回答下列问题：(1)写出下列蚀刻液蚀刻铜的离子方程式。①FeCl3溶液： ▲ 。②H2O2－盐*： ▲ 。③[...

问题详情：化学与生产、生活密切相关，下列有关说法正确的是A．用***蚀刻玻璃仪器上的刻度，是利用了***的强氧化*B．太阳能电池板的主要成分是二氧化硅C．生物柴油和液化石油气(LPG)的主要成分都是烃类D．压敏胶黏剂是一种复合材料...

1、它像不像一个蚀刻素描？2、天空有飞机掠过，就像一副蚀刻素描3、与蚀刻素描不同的是，他们的技术不需要刮擦。4、“在他们向我展示数据时，我联想到的却是蚀刻素描，”利维回忆道。5、在绘制线条的时候，需要用蚀刻素描笔刮去...

水**调:用**在钢片或铜片上作腐蚀的蚀刻法.一百水**调:用**在钢片或铜片上作腐蚀的蚀刻法。采用*冻蚀刻法复制微绒毛膜膜内粒子形态。蚀刻法作画始于16世纪初期，但用蚀刻金属版制作版画的方法是从在*胄上蚀刻图案的作...

蚀刻液的化学身分的构不败:蚀刻液的化学组分不不对别，其蚀刻速度不离不不异，蚀刻系数也不不对别。碱*蚀刻液再生循环利用及铜回收设备。运用络合平衡和沉淀平衡的理论，对***化铜蚀刻液的蚀刻过程进行研究，提出以铜废料作...

问题详情：**蚀刻液的主要成分是H2O2/HCl，腐蚀铜后的废液中主要含有CuCl2，HCl。一种以废铝屑为主要原料回收**蚀刻废液中铜并生产*化铝的工艺流程如下： (1)**蚀刻液腐蚀铜的离子方程式__________， 生产过程中盐*浓度一般...

仿金属蚀刻网印工艺。我厂主要以金属蚀刻加工。仿金属蚀刻油不朱由主剂和拆开料构不败。此外，在有不抬凸和不抬瘪处，最坏必给安*UV仿金属蚀刻不朱层。仿金属蚀刻油不朱在配料时补充的各栽助剂、质料给充足搅拌平均。蚀...

沉积，蚀刻，再重复。老电影此后用于蚀刻。阐述了二氧化矽干法蚀刻的原理和主要的蚀刻参数。亦是制造蚀刻板画的印版式的方法.这些蚀刻画、水*画和绢画真的很不错。照相蚀刻:制活版印版的一个方法.水**调:用**在钢片或铜...

仿金属蚀刻网印工艺。仿蚀刻网印油不朱答密闭储蓄，避平冷以免不弱硬。...

问题详情：W、X、Y、Z是原子序数依次增大的短周期主族元素，W、Z同主族，W的*化物水溶液可用于蚀刻玻璃，Y的最外层电子数是X的3倍，Y的最高正价与最低负价代数和为4。下列说法错误的是A.原子半径：X>Y>Z>WB.简单*化物的稳定*：W>Z>...

问题详情：从**蚀刻废液(含Fe3+、Cu2+、Fe2+、H+及Cl－)中回收Cu并制取FeCl3·6H2O，下列图示装置和原理不能达到实验目的的是A．用装置*从废液中还原出CuB．用装置乙进行固液分离C．用装置*将Fe2+氧化为Fe3+D．用装置丁将*中反应后...

1、方法：采用ODO扫描电镜法和冷冻蚀刻法行电镜观察。...

1、方法：采用ODO扫描电镜法和冷冻蚀刻法行电镜观察。2、目的:探讨电镜冷冻蚀刻技术在Duchenne型肌营养不良症研究中的应用。3、采用冷冻蚀刻技术，定量分析大鼠小肠上皮细胞膜内微粒的数量及分布状况。4、通过冷冻蚀刻电...

问题详情：下列物质的*质与应用对应关系正确的是()A．FeCl3溶液显**，可用于蚀刻印刷电路板B．Na2CO3溶液显碱*，可用于除锅垢中的硫*钙C．MgO、Al2O3熔点高，可用于制作耐高温坩埚D．Na、K合金具有强还原*，可用于原子反应堆的导热剂【...

问题详情：利用废蚀刻液（含FeCl2、CuCl2及FeCl3）制备碱*蚀刻液[Cu(NH3)4Cl2溶液]和FeCl3·6H2O的主要步骤：用H2O2氧化废蚀刻液，制备氨气，制备碱*蚀刻液[CuCl2+4NH3=Cu(NH3)4Cl2]、固液分离，用盐*溶解沉淀并制备FeCl3·6H2O。...

1、建立了基体蚀刻速率与重铬*钾浓度、硫*浓度、蚀刻温度的数学关联式；2、基于差动原理对HF*恒定化学蚀刻速率法进行改进，以降低环境(温度、HF*浓度等)变化对测量结果的影响，从而提高测量效率和测量准确*。3、该创造*的...

问题详情：在微电子工业中NF3常用作氮化硅的蚀刻剂，工业上通过电解含NH4F等的无水熔融物生产NF3，其电解原理如图。下列说法不正确的是(  )A.a电极为电解池的阳极B.阳极的电极反应式：NH4++3F--6e—===NF3+4H+C.电解过程中...

问题详情：FeCl3溶液常用于蚀刻印刷电路，反应原理为aFeCl3+bCu=cCuCl2+dX。向含溶质32.5g的FeCl3溶液中慢慢加入一定量的Cu粉，反应过程中FeCl3、CuCl2的质量随Cu粉质量变化如下图。下列说法不正确的是（  ） A.X为FeCl2 ...

问题详情：三*化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。它无*、无臭，在潮湿的空气中能发生下列反应：3NF3＋5H2O＝2NO＋HNO3＋9HF，下列有关说法正确的是A．反应中NF3是氧化剂，H2O是还原剂B．反应中被氧化与被还原的原子物质的...

问题详情：铜制印刷电路板蚀刻液的选择及再生回收是研究热点。(1)用HCl-FeCl3溶液作蚀刻液①该溶液蚀刻铜板时发生主要反应的离子方程式为_______。②从废液中可回收铜并使蚀刻液再生。再生所用的试剂有Fe、_____和____...

问题详情： 某研究*学习小组在网上收集到如下信息：Fe(NO3)3溶液可以蚀刻银，制作美丽的银饰。他们对蚀刻银的原因进行了如下探究：【实验】制作银镜，并与Fe(NO3)3溶液反应，发现银镜溶解。⑴下列有关制备银镜过程的说法正确的...

1、我厂主要以金属蚀刻加工。2、采用聚焦离子束溅*蚀刻加工了微米尺寸锈钢悬臂梁试样。...

问题详情：化学与生活、能源、环境等密切相关。下列描述错误的是（ ）选项现象或事实解释A用***蚀刻玻璃SiO2是碱*氧化物，能与*反应B用浸有**高锰*钾溶液的硅藻土作水果保鲜剂**高锰*钾溶液能氧化水果释放的催熟剂乙烯C利用...

问题详情：三*化氮（NF3）是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，无*，无臭，在潮湿空气中泄露会产生白雾，红棕*气体等现象，反应方程式为：aNF3＋bH2O＝c    ＋dHNO3＋eHF。下列说法正确的是（   ）A．反应方程式横线处的物质为NO，且a＝3，b＝5，c＝2...