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3NF35H2O2NOHNO的精選
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三*化氮是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體,它在潮溼的環境中能發生如下反應:3NF3+5H2O=2NO+HNO...
2021-03-08
問題詳情:三*化氮是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體,它在潮溼的環境中能發生如下反應:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有關該反應的說法正確的是3是氧化劑,H2O是還原劑 3在潮溼空氣中泄漏會看到紅棕*氣體C.每消耗0.2mo...
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