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3NF35H2O2NO的精選
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三*化氮(NF3)是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體,它在潮濕的環境中能發生反應:3NF3+5H2O=2NO+...
2020-04-26
問題詳情:三*化氮(NF3)是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體,它在潮濕的環境中能發生反應:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有關該反應的説法正確的是( )3是氧化劑,H2O是還原劑 B.還原劑與氧化劑...
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