刻蝕的精選

等離子體低温刻蝕是一種針對高深寬比結構的幹法刻蝕技術。目前，刻蝕技術已經成為集成電路生產中的標準技術，幹法刻蝕設備亦成為關鍵設備。對硅的幹法刻蝕技術是現代半導體工業中非常重要的一項工藝。更精細的刻蝕技術可...

問題詳情：三*化氮（NF3）是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體，它在潮濕的環境中能發生反應：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有關該反應的説法正確的是（  ）3是氧化劑，H2O是還原劑               B.還原劑與氧化劑...

問題詳情：普通玻璃的主要成分之一是二氧化硅，能在玻璃上進行刻蝕，將其製成毛玻璃和雕花玻璃的物質是（   ）。   A．燒鹼   B．純鹼   C．***   D．鹽*【回答】C知識點：硅鹽工業簡介題型：選擇題...

問題詳情：如圖為刻蝕在玻璃上的精美的花紋圖案，則該刻蝕過程中所發生的主要化學反應為()A．CaCO3＋2HCl===CaCl2＋H2O＋CO2↑B．NaHCO3＋HCl===NaCl＋H2O＋CO2↑C．Si＋4HF===SiF4↑＋2H2↑D．SiO2＋4HF===SiF4↑＋2H2O【回答】解析：玻璃中含有二氧化...

問題詳情：化學實驗在化工和科學實驗中有重要的作用，工業上可用**刻蝕廢液（主要成分有Cu2+、Fe2+、Fe3+、H+、Cl−）製備鹼式碳*銅，已知：Cu2+、Fe2+、Fe3+生成沉澱的pH（調節溶液pH促使離子轉化為難溶*沉澱而除去）如下：物質Cu(OH)...

問題詳情：三*化氮(NF3)是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體，它在潮濕的環境中能發生反應：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。下列有關説法正確的是A．NF3既是氧化劑，又是還原劑B．還原劑與氧化劑的物質的量之比為2∶1C．若生成0.2molHNO3，...

問題詳情：***是一種弱*，可用來刻蝕玻璃。已知25℃時：①HF(aq)+OH-(aq)=F-(aq)+H2O(l)  △H=-67.7kJ·mol-1②H+(aq)+OH-(aq)=H2O(l)   △H=-57.3kJ·mol-1在20mL0.1mol·L-1***中加入VmL0.1mol·L-lNaOH溶液，下列有...

問題詳情：賞心悦目的雕花玻璃是用下列物質中的哪種對玻璃進行刻蝕而製成的（ ）                                                       A、鹽*       ...

問題詳情：下列能用於刻蝕玻璃的溶液是A．鹽*          B．硫*          C．**          D．***【回答】D知識點：硅鹽工業簡介題型：選擇題...

給出了加速度計的製作工藝流程，研究瞭解決深反應離子刻蝕過程中的過刻蝕現象的方法。加速度計用普通的N型硅片製造，為了刻蝕高深寬比的結構，使用了深反應離子刻蝕（DRIE）工藝。衍*光學元件的製作技術主要包括激光或電子束直...

問題詳情：下列過程不涉及化學變化的是(   )A．赤鐵礦石鍊鐵              B．***刻蝕玻璃C．液氨製冷                  D．自然界中氮的固定【回答】C知識點：氧化還原反應題型：選擇題...

問題詳情：有人想在一塊平整光滑的大理石板上用化學腐蝕的方法刻上“熱愛祖國”四個大字。請你提出一種刻蝕的化學原理（用化學方程式表示），並簡要説明這一方法的*作步驟。【回答】 CaCO3+2HCl====CaCl2+CO2↑+H2O 先在大...

問題詳情：下列説法正確的是A．硅材料廣泛應用於光纖通訊               B．工藝師利用鹽*刻蝕石英制作藝術品C．水晶項鍊和餐桌上的瓷盤都是硅*鹽製品   D．粗硅製備單晶硅不涉及氧化還原反應【回答】A知識...

該器件採用一次深刻蝕與一次淺刻蝕，從而屏蔽掉“靜態鏡面”的影響。通常，所有暴露在刻蝕劑中的材料都具有一定的刻蝕速率。等離子體低温刻蝕是一種針對高深寬比結構的幹法刻蝕技術。介紹了一種無刻蝕直流鍍鐵工藝。劑中...

問題詳情：雕花玻璃是由下列物質中的一種對玻璃進行刻蝕製成的，這種物質是（） A.鹽*       B.***        C.燒鹼            D.純鹼【回答】B知識點：硅鹽工業簡介題型：選擇題...

問題詳情：如圖為刻蝕在玻璃上的精美的花紋圖案，則該蝕過程中所發生的主要化學反應為（）A．CaCO3+2HCl═CaCl2+H2O+CO2↑B．NaHCO3+HCl═NaCl+H2O+CO2↑C．Si+4HF═SiF4↑+2H2↑D．SiO2+4HF═SiF4↑+2H2O【回答】D知識點：硅鹽工業簡...

問題詳情：賞心悦目的雕花玻璃是用下列物質中的一種對玻璃進行刻蝕而製成的，這種物質是（   ）A.                                                 鹽*      ...

問題詳情：如下圖為刻蝕在玻璃上的精美的花紋圖案，則該刻蝕過程中發生的主要化學反應為()A．CaCO3＋2HCl===CaCl2＋H2O＋CO2↑B．NaHCO3＋HCl===NaCl＋H2O＋CO2↑C．Si＋4HF===SiF4↑＋2H2↑D．SiO2＋4HF===SiF4↑＋2H2O【回答】【解析】玻璃的成分中...

問題詳情： 賞心悦目和雕花玻璃是用下列物質中的一種對玻璃進行刻蝕而製成的.這種物質是()A.鹽*   B.燒鹼   C.***   D.純鹼【回答】【*】C【解析】A.鹽*與二氧化硅不反應，A錯誤；B.燒鹼與二氧化硅反應生成硅**...

問題詳情：下列物質可用來刻蝕玻璃的是（）A．鹽*B．氨水C．***D．純鹼【回答】考點：硅和二氧化硅．專題：碳族元素．分析：玻璃的主要成分為：Na2SiO3、CaSiO3、SiO2，***能夠與二氧化硅反應生成四*化硅氣體，工藝師利用***刻蝕石英制作藝術品，二氧...

問題詳情：下列敍述不正確的是A.用***對玻璃進行刻蝕可製成賞心悦目的雕花玻璃B.Na2CO3粉末遇水生成含有結晶水的碳**晶體，該晶體一定是Na2CO3•10H2OC.*水和乾燥的*氣均能使鮮花褪*D.合金的硬度可以大於它的純金屬成分，...

問題詳情：用膠頭滴管向用石蠟圍成的“spark”凹槽內注入某溶液，即可在玻璃上刻蝕出“spark”的字樣，則該溶液是()A．鹽*             B．***          C．燒鹼          D．飽和食鹽水【回答】...

問題詳情：三*化氮是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體，它在潮濕的環境中能發生如下反應：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有關該反應的説法正確的是3是氧化劑，H2O是還原劑  3在潮濕空氣中泄漏會看到紅棕*氣體C.每消耗0.2mo...

問題詳情： 下列説法正確的是A.硅材料廣泛應用於光纖通訊B.工藝師利用鹽*刻蝕石英制作藝術品C.水晶項鍊和餐桌上的瓷盤都是硅*鹽製品D.粗硅製備單晶硅不涉及氧化還原反應【回答】【*】A【解析】鹽*和石英不反應；水晶項...

問題詳情：化學與生產生活密切相關，下列物質的用途及解釋均正確的是選項用途解釋A可用FeCl3溶液刻蝕銅製電路板Fe3+的氧化*強於Cu2+B碳與石英反應可冶煉粗硅碳的非金屬*比硅強C四*化碳可用於滅火四*化碳的沸點高D**KMnO4...