工業上可用粗硅(含鐵、鋁、硼、*等雜質)與乾燥的HCl氣體反應制得SiHCl3，：Si+3HCl=SiHCl3...

問題詳情：

工業上可用粗硅(含鐵、鋁、硼、*等雜質)與乾燥的HCl氣體反應制得SiHCl3，：Si+3HCl=SiHCl3+H2，SiHCl3與過量的H2在1000℃～1100℃反應制得純硅。

有關物質的物理常數見下表：

（1）粗硅與HCl反應完全後，經冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4，提純SiHCl3可採用

           的方法

（2）實驗室也可用SiHCl3與過量乾燥的H2反應制取純硅，裝置如下圖所示（加熱和夾持裝置略去）：            ①裝置B中的試劑是           ，裝置C需水浴加熱，目的是                     。 ②反應一段時間後，裝置D中可觀察到有晶體硅生成，裝置D不能採用普通玻璃管的原因是                                                        。

【回答】

（1）蒸餾（1分）

（2）① 濃硫*（1分）， 使SiHCl3氣化，與*氣反應（1分） ②SiHCl3與過量的H2在1000℃～1100℃反應制得純硅，溫度太高，普通玻璃管易熔化（2分）

知識點：物質的分離 提純和檢驗

題型：實驗,探究題