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5H2O2N的精選
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5H2O2N的精選
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三*化氮(NF3)是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體,它在潮溼的環境中能發生反應:3NF3+5H2O===2N...
2020-06-22
問題詳情:三*化氮(NF3)是微電子工業中優良的等離子刻蝕氣體,它在潮溼的環境中能發生反應:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。下列有關說法正確的是A.NF3既是氧化劑,又是還原劑B.還原劑與氧化劑的物質的量之比爲2∶1C.若生成0.2molHNO3,...
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