3NF35H2O2NOHNO的精选

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三*化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生如下反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO...

三*化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生如下反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO...

2021-03-08
问题详情:三*化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生如下反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是3是氧化剂,H2O是还原剂  3在潮湿空气中泄漏会看到红棕*气体C.每消耗0.2mo...