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三*化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2N...
2020-06-22
问题详情:三*化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。下列有关说法正确的是A.NF3既是氧化剂,又是还原剂B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1C.若生成0.2molHNO3,...
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