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Ⅰ.實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:序號氣體反應...

問題詳情:

Ⅰ. 實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。

下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:

Ⅰ.實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:序號氣體反應...

序號

氣體

反應原理

A中試劑

①      

乙烯

溴乙*和NaOH的醇溶液加熱

_____________

②      

乙烯

無水乙醇在濃硫*的作用下加熱至170℃反應的化學方程式是_________________

          

③      

乙炔

電石與飽和食鹽水反應

_______________

Ⅱ. 爲探究乙*乙酯的水解情況,某同學取大小相同的3支試管,分別加入以下溶液,充分振盪,放在同一水浴加熱相同時間,觀察到如下現象。

編號

③      

實驗*作

Ⅰ.實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:序號氣體反應... 第2張

Ⅰ.實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:序號氣體反應... 第3張

Ⅰ.實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:序號氣體反應... 第4張

實驗現象

酯層變薄

酯層消失

酯層基本不變

(1)試管①中反應的化學方程式是________________________;

(2)對比試管①和試管③的實驗現象,稀H2SO4的作用是______________;

(3)試用化學平衡移動原理解釋試管②中酯層消失的原因_____________。

【回答】

Ⅰ. (1)水    

(2)Ⅰ.實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:序號氣體反應... 第5張Ⅰ.實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:序號氣體反應... 第6張Ⅰ.實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:序號氣體反應... 第7張    NaOH溶液

(3)Ⅰ.實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:序號氣體反應... 第8張溶液

Ⅱ. (1)Ⅰ.實驗室製得氣體中常含有雜質,影響其*質檢驗。下圖A爲除雜裝置,B爲*質檢驗裝置,完成下列表格:序號氣體反應... 第9張

(2)稀硫*可以加速酯的水解(或稀硫*是酯水解反應的催化劑)

(3)乙*乙酯水解生成的乙*與NaOH發生中和反應,乙*濃度降低,使水解平衡向正反應方向移動,水解比較徹底。

知識點:乙烯 烯烴

題型:實驗,探究題