工业上可用粗硅(含铁、铝、硼、*等杂质)与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3，：Si+3HCl=SiHCl3...

问题详情：

工业上可用粗硅(含铁、铝、硼、*等杂质)与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3，：Si+3HCl=SiHCl3+H2，SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅。

有关物质的物理常数见下表：

（1）粗硅与HCl反应完全后，经冷凝得到的SiHCl3中含有少量SiCl4，提纯SiHCl3可采用

           的方法

（2）实验室也可用SiHCl3与过量干燥的H2反应制取纯硅，装置如下图所示（加热和夹持装置略去）：            ①装置B中的试剂是           ，装置C需水浴加热，目的是                     。 ②反应一段时间后，装置D中可观察到有晶体硅生成，装置D不能采用普通玻璃管的原因是                                                        。

【回答】

（1）蒸馏（1分）

（2）① 浓硫*（1分）， 使SiHCl3气化，与*气反应（1分） ②SiHCl3与过量的H2在1000℃～1100℃反应制得纯硅，温度太高，普通玻璃管易熔化（2分）

知识点：物质的分离 提纯和检验

题型：实验,探究题