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制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如...

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制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如...制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第2张制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第3张制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第4张制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第5张制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第6张制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第7张制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第8张制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第9张

(1)写出由石英砂制取粗硅的化学方程式                                    ;

由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式____________________________________。

(2)某玻璃厂以石英砂、纯碱、石灰石为原料生产普通玻璃。石英砂在高温条件下分别与纯碱、石灰石反应得到相应硅*盐。请写出有关反应的化学方程式。

         ①_________________________________________________;

         ②_________________________________________________。

(3)该普通玻璃的组成为(质量分数):Na2O 13% ,CaO 11.7% ,SiO2 75.3%。

①以氧化物组成的形式表示该玻璃的化学式:                        。

②若该厂每天生产10 t 玻璃,石英砂原料利用率按95%计算,请写出每天消耗石英砂质量至少为                           (保留2位有效数字)。

【回答】

(1)SiO2+2C制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第10张Si+2CO↑    SiHCl3+H2制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第11张Si+3HCl

(2)Na2CO3+SiO2制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第12张Na2SiO3+CO2↑     CaCO3+SiO2 制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三**硅*(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如... 第13张CaSiO3+CO2↑

(3)Na2O·CaO·6SiO2         (4)7.9t

知识点:非金属元素的单质及其化合物

题型:综合题