三*化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+... 国语站 题库 4.31K 大中小设置文字大小 问题详情:三*化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是( )3是氧化剂,H2O是还原剂 B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1C.若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子 3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕*气体【回答】D知识点:氧化还原反应题型:选择题 TAG标签:刻蚀 等离子 化氮 3NF35H2O2NO NF3 #